PI0404368-5

A presente invenção se refere à fabricação de filmes finos com forma geométrica padronizada sobre um substrato. O método descrito permite controlar a área e a forma geométrica dos depósitos de filmes finos sobre um substrato, sendo particularmente adequado à deposição seletiva de filmes finos de óxidos condutores transparentes sobre substrato cerâmico ou de vidro. O método permite selecionar a área a ser depositada antes da deposição do filme fino. O substrato é recoberto por um material estável que é removido por um solvente após a deposição do filme fino, levando o filme fino sobre ele depositado consigo, visto que impede a adesão do filme fino ao substrato.